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1，俄罗斯搞的这台光刻机，技术上含量很低。
因为这两年被美西方卡脖子，很多人一提到光刻机就感觉很了不起的样子。
其实光刻机分很多种，中国缺的是高端光刻机，即EUV光刻机。中低端的光刻机，中国能生产的企业很多。
上海微电子在07年就造出90nm光刻机；
1981年，中国科学院半导体所就成功研制出JK-1型半自动接近式光刻机，这是中国第一台能生产纳米级的光刻机。
还有更早的玩意，1971年清华大学徐端颐教授研制成功“中国第一台光刻机”，要是按这台光刻机来算，俄罗斯第一台光刻机比中国晚了53年。
现在台积电和三星用ASML的EUV光刻技术，能生产出精细到3纳米甚至2纳米的芯片，可见老毛子技术差的不是一点半点了。
2，350纳米够俄罗斯用的了。
350纳米工艺的光刻机，也就只能造低端芯片了；问题是低端芯片俄罗斯也缺，所以意义就不一样了。
比如：可用在汽车安全气囊系统、制动系统、中控显示、车灯调节控制、发动机控制、LED环境灯光、自动驾驶系统、空调系统、电子电气系统，同时还涉及在智能家居领域的应用.....
另外，老毛子搞的这玩意也很便宜，成本只有 500 万卢布，约合人民币 36.74 万元，上海的一套房能买20台光刻机了。
而一台荷兰ASML公司的EUV光刻机售价每套约为1.8亿美元，最新型的高数值孔径EUV光刻机售价高达3.5亿欧元。
特别是用来生产导弹用的芯片，350纳米基本上差不多够用了。
军用芯片注重的是在极端环境下的性能，而不是工艺的先进性。美国五代机F22用的芯片是65纳米，“毅力”号火星车用的CPU制程是250纳米，至于其他装备要求更低了。